NIKKA SEIKO CO., LTD.

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保护剂

用于硅片加工时,晶圆表面保护,和背面研磨工艺,各种材料晶圆的保护剂。

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普莱英克特保护剂

使用于半导体晶圆无蜡研磨时有研磨痕,真空吸附的印迹,背面受到影响导致平坦性较低,光学镜片避免划伤和腐蚀,加工工艺发生研磨伤痕,避免切割液钻石液损伤工件等情况,有多种耐药性优秀或者方便清洗的产品可供选择。

纳罗西路特保护剂

可保护半导体晶圆表面,避免被镭射切割造成的烧出物损伤。