研削 抛光工艺
可完成高平坦粘结及高纯度清洗。
准备了对各种材料、各种基板用晶圆，带图形晶圆相关工艺适用的，具有涂布性及耐性的固态、液态蜡。并可提出优秀产品以供选择。
思凯伊利奎得液体蜡系列
思凯伊利奎得液体蜡，适用于晶圆的精密加工，通过旋涂设备自动涂布在晶圆表面，可获得极为平整的涂布面。可通过SC-1或我司生产的可抑制雾化减少颗粒附着的高纯度清洗剂，"柯拉拉克林洗净剂"清除。
艾克尔利奎得液体蜡系列
JC系列使用水作为溶媒，更环保。并可先涂布于研磨盘上，分离去蜡时使用碱性清洗剂例如我司高纯度“柯拉拉克林洗净剂”。
德莱隆保湿剤
新型水溶性保湿剂，可防止抛光面干燥，改善水痕问题。通过抑制自然产生的氧化层，从而避免颗粒再附着。
柯拉拉克林洗净剂
柯拉拉克林洗净剂是高纯度清洗剂。因为金属颗粒含量极低，特别适用于半导体晶圆的去蜡清洗。301可抑制侵蚀。
普莱英克特保护剂
使用于半导体晶圆无蜡研磨时有研磨痕，真空吸附的印迹，背面受到影响导致平坦性较低，光学镜片避免划伤和腐蚀，加工工艺发生研磨伤痕，避免切割液钻石液损伤工件等情况，有多种耐药性优秀或者方便清洗的产品可供选择。
西伏特瓦克斯固体蜡系列
适用于高精度要求的切割、切削、研磨、抛光工艺。清洗剂可使用碱性，乙醇，异丙醇，丙酮，碳氢化合物类溶剂清洗剂。
艾鲁克瓦克斯固体蜡系列
和西伏特瓦克斯固体蜡类似，适用于各类材料的加工。特点是较难被碱性水溶性清洗剂溶解，易溶于酒精性清洗剂。可使用乙醇，异丙醇，丙酮，碳氢化合物类溶剂清洗剂。
艾克尔瓦克斯固体蜡系列
本系列有两种类型。一种可使用热水清洗，另一种可用室温水清洗。通过简化清洗工艺，实现优化作业环境并简化废水处理作业。
思凯伊瓦克斯固体蜡系列
在研磨研削工艺表现中，获得长年信赖和实绩的固体蜡。有多种不同的软化点，黏合力和流动黏度的产品。较难溶于碱性和酒精清洗剂，推荐使用碳氢化合物类溶剂清洗剂。
NS库朗特切削液
NS库朗特切削液 Y和SL-1适用于钻石研磨液。AD-NA和CS-5是弱碱性研磨液，且不会溶解我司艾特菲克斯固体蜡和西伏特瓦克斯固体蜡。
艾玛尼卡洗净剂
具有强力乳化效果，可用于去油脂。2号型属于弱碱性可常温使用。55号型属于强碱型可加热使用。55号型也可用于去除我司的艾特菲克斯固体蜡。
浪格露洗净剂
对金属材质腐蚀更低的清洗剂。由于具有防锈效果，适用于磁性材料的去蜡清洗。
尼卡索罗洗浄剤
适合清洗艾鲁克瓦克斯固体蜡，思凯伊瓦克斯固体蜡，西伏特瓦克斯固体蜡。适合清洗油性冷却液。因闪点高达73摄氏度，工艺环境限制少，刺激性气味较少。LC适宜于清洗沥青型固体蜡。
柯雷尔洗净剂
不仅可以去蜡清洗，还可以去除化合物半导体和玻璃工件表面的颗粒物。
罗摩尔洗净剂
具有强力界面活性剂，可用于各种材料的去蜡，去油脂，去颗粒清洗。
菲利特罗洗净剂
用于去除水晶，陶瓷，玻璃研削工艺中的金属粒子。
普拉克林洗净剂 HNC
可去除因静电吸附的油脂颗粒。可用于强力油脂的去除，因不含磷具备优秀的生物降解能力。
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