ラップ・ポリッシュ工程
高平坦な仮止めと高純度洗浄を実現します。
各種素材、各種基板用ウェーハ、パターン付ウェーハ、工程に適した塗布性及び耐性等のある固形、液状ワックスを各種取り揃えてており、最適な製品をご提案が可能です。
スカイリキッド系
スカイリキッドシリーズはオートマウンターやスピンコーターでの塗布に最適で、高平坦度貼付による高精度ウェーハの生産ニーズにお応えします。洗浄は高純度洗浄剤「キララクリーン」や従来のSC-1を使うことにより、パーティクルの発生やヘイズ（くもり）を抑えた清浄な仕上がりが可能です。
アクアリキッド系
WAシリーズは、水溶性ワックスを有機溶剤で液状化した新しいワックスです。低温での貼り付け作業や、純水による洗浄が可能で、作業環境の改善と廃液処理の簡略化に大きく貢献します。JCシリーズは、溶媒に水を用いた環境にやさしい水溶性ワックスです。スカイリキッドと同様にプレートに塗布して使用可能です。洗浄は高純度洗浄剤「キララクリーン」などのアルカリ洗浄剤にて洗浄できます。これまでと同じ工程で処理することができ、新たな装置の導入は必要ありません。（PAT.）
ドライノンＣ
ドライノンCは、界面活性剤を含まない新しいタイプの水溶性乾燥防止剤です。研磨面の乾燥を防ぎシミの発生を改善し、自然酸化膜の発生を抑えることができ、パーティクルの固着や再付着を抑制します。
キララクリーン
キララクリーン101はスカイリキッドやアルカリ可溶固形ワックス用の高純度洗浄剤です。ダスト/メタルフリーのため、各種ウェーハの洗浄に使用可能です。エッチングを抑えたキララクリーン301もあります。
プレインコート系
半導体ウェーハのワックスレス研磨時に発生するキズや吸着マークを防止し、裏面の影響を受けない平坦性が得られた高精度ウェーハの生産に寄与します。光学系ではレンズのヤケ防止やエッチング時の保護、加工時に起こるキズ・カケの発生を抑え、研磨液や砥粒から守ります。ユーザーのニーズに合わせた剥離タイプや耐薬品タイプ等を選べる、幅広い製品群が魅力です。
シフトワックス系
各種素材の切断、切削、研磨等幅広い加工に使用可能な高精度接着が可能なワックスです。洗浄はアルカリ、アルコール、ＩＰＡ、アセトン、炭化水素系での洗浄が可能です。
アルコワックス系
シフトワックスと同様に高精度接着により各種素材の加工に適しており、アルカリに難溶のため水溶性研削液による影響を受け難い特長があります。洗浄はアルコール、IPA、アセトン、炭化水素系溶剤となります。
アクアワックス系
温水にて洗浄するタイプと常温水にて洗浄できるタイプがあり、作業環境の改善と廃水処理の簡略化ができます。
スカイワックス系
研削、研磨加工を中心に永年の信頼と実績を誇るワックスです。軟化点や粘度の種類に富み、高精度な接着に対応可能です。アルカリ、アルコールには難溶の為、炭化水素系溶剤での洗浄をお勧めします。
エヌエスクーラント
ダイヤモンドスラリーのルブリカントとしてエヌエスクーラントY, SL-1があります。外周刃用研削液としてアドフィックス、シフトワックスを溶解しない弱アルカリ性の研削液エヌエスクーラントAD-NA, CS-5があります。
エマニッカ
油汚れを強力に乳化し、除去します。弱アルカリで常温使用のエマニッカ#2、強アルカリで加温使用のエマニッカ#55はアドフィックスの洗浄にも有効です。
ランゲルＦ
金属のエッチングが少なく、デリケートな素材に最適なワックス洗浄剤です。
防錆効果がありますので、磁性材料加工後のワックス洗浄にも使用できます。
ニッカゾール
スカイ系・アルコ系・シフト系のワックス洗浄、油性研削液の粗洗浄に最適です。REは引火点も73℃と高く、臭いも少なく作業環境も良好です。LCはピッチ系の汚れに最適です。
クレールＣ
ガラス・化合物半導体の素地をいためず、ワックスやパーティクルを除去します。
ノーマルＡ
強力な界面活性剤の効果で、各種素材の脱脂、研磨材除去、ワックス洗浄等に有効です。
フェリトール
水晶・セラミック・ガラス等のラップ時の金属イオンの除去に有効です。
プラクリーンHNC
静電気的に付着した研磨材等の汚れ、パーティクルを除去します。強力脱脂用にも使用できます。リンを含まないので、生分解性が良好です。
シリコン
各サイズのシリコンウェーハに対応いたします。厚さ、面状態、洗浄度等のご要望に対応いたします。
ホットプレート
ワックス貼付作業や洗浄剤の加温に最適なホットプレートです。本体部のプレートは汚れが付きづらいアルマイト処理を施した低床型を採用しています。またデジタルコントローラーは本体とは離れたセパレート式とすることでより高い安全性と利便性を確保しています。
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